处理气量：（1-200）Nm3/h
压力：≤1.0Mpa
氩气纯度：≥99.999％ 
露点：≤-70℃

含氧量：≤1.5ppm

含氢量：≤0.5ppm

含氮量：≤4ppm

ΣCH≤1ppm

广泛应用于：

熔硅单晶炉配套使用，激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。