产品用途：

此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔

电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。

产品组成：

CVD系统配置：

1.1200度开启式真空管式炉（可选配单温区及双温区）。

2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。

3.内外双石英管，采用真空可通气氛双法兰特殊连接。

4.多路气体流量控制系统（质子流量控制器和浮子流量控制器）

5.真空系统（可选配中真空或高真空）

产品特点：

产品独特性

1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权专利设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。

4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限位功能，炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。

5 双管真空密封法兰，反应气体可以在内外管之间发生反应，冷却气体可通过内管，从而使内管外壁温度降低。