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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪图片
型号:GSL-1100X-SPC-16M
产地:广东


产品介绍

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理(二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用,且设备体积小巧,节约实验室空间;操作简单,适合初学人员使用。

产品名称

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

产品型号

GSL-1100X-SPC-16M

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备需选配自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(带减压阀)

4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通风装置:不需要

主要特点

1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。

2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,以获得**镀膜效果。

3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。

4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

5、根据电场中气体电离特性,采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。

6、溅射头采用Peltier制冷技术,可得到高性能、精细颗粒的涂层。

7、可用水冷溅射头、水冷载物台。

技术参数

1、靶:Ø50mm

2、真空室:Ø160mm×120mm

3、真空度:≤4×10-2mbar

4、max电流:50mA(可选100mA)

5、可设定极限时间:9999s

6、微型真空气阀:连接Ø3mm软管

7、极限电压:1600V DC

8、机械泵:2L/s

产品规格

尺寸:360mm×300mm×380mm。

整体重量:50Kg

主机净重:15Kg

标准配件

1

金靶材

1个

2

进气针阀

1个

3

保险丝

2个

可选配件

金、铟、银、铂等各种靶材

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