Transene钽蚀刻剂SIE—8607和111是在微电子产品的制作中用于精密、清晰的蚀刻钽、氮化钽和氧化钽膜的高纯度蚀刻剂体系。钽蚀刻剂SIE—8607是浸蚀性更强的快速蚀刻剂。而钽蚀刻剂—111则是便于蚀刻控制的较缓慢的蚀刻剂，它能更为有效地去除氧化钽膜层。这两种蚀刻剂都经过滤去除了大于0.2微米的颗粒。