产品应用：

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成：

PECVD系统配置：

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配置管内测温系统。

3.预加热开启式管式电炉

4.等离子射频电源

5.多路质量流量控制系统

6.真空系统（可选配中真空或高真空）

产品特点：

生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。